HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途
更新時間：2022-12-02
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HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途適用范圍
本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學(xué)品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術(shù)器械進(jìn)行煮沸消之用。
HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途技術(shù)參數(shù)
型號：HW.SY11-KP3（三孔三溫）
規(guī)格：智能
功率：900W
控溫范圍：室溫+5℃～99.9℃
水溫波動性、水溫均勻性：≤±0.5℃
水槽尺寸（mm）：（150×140×90）×3
特點
產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板材，溫控系統(tǒng)采用微機(jī)PID智能控制，感熱性能強(qiáng)、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)
