鄭州歐諾儀器現(xiàn)貨進口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金，此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，

鄭州歐諾儀器現(xiàn)貨進口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣

Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金，此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調控的特征設計，它保持吸附劑材料于溫度，消除了熱量流失的可能性

氦氣純化器

*   可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

*   操作壓強：1000 psig

*   可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。

*   未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

氮氣純化器

*   可純化氣體：只有N2

*   操作壓強：1000 psig

*   可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。

*   未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2